EUV-Technologie
FB Mathematik, Informatik, Technik / Hochschule Koblenz
Kurzportrait
Entwicklung von laserbasierten Lichtquellen, optischen Systemen und Detektoren für EUV- und weiche Röntgenstrahlung, insbesondere für die EUV-Lithographie. Absolutmessung der Emission von EUV- und weichen Röntgenquellen. Diagnostik und Anwendungen ultrakurzer EUV-Pulse (sub-fs) aus Laserquellen ("Hohe Harmonische").
Dienstleistungsangebot
Kooperationen mit:
Max-Born-Institut Berlin, Prof. Sandner, Dr. Stiel (EUV-Lithographie)
Photonics Institute, TU Wien, Prof. Krausz (Ultrakurze EUV-Pulse)
Biomedical and X-ray Physics, TH Stockholm, Prof. Hertz (EUV-Lithographie)
RWTH Aachen / Fraunhofer Institut für Lasertechnik Aachen, Dr. Neff, Dr. Lebert (EUV-Lithographie)
Ausstattung
Labor ca. 80 qm. Treiberlaser für laserinduzierte Plasmaquelle (Infinity 15-30). Slow scan CCD-Kamera mit thinned, back-illuminated CCD (Photometrics AT 300L mit TK1024AB,1024x1024 Pixel).
Vakuumkammer mit Flüssigkeitsjet als Target für laserinduziertes Plasma, computergesteuert, und Kühlfalle bzw. differentieller Pumpstrecke. EUV-Spektrograph für 1-30nm Wellenlänge. 4GS / 1GHz Speicheroszilloskop.