Atomic Layer Deposition of SiO2 for AlGaN/GaN MOS-HFETs
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. Bd. 33. H. 9. 2012 S. 1240-1242
Erscheinungsjahr: 2012
Publikationstyp: Zeitschriftenaufsatz
| Geprüft | Bibliothek |
Autoren
Kirkpatrick, Casey J. (Autor)
Lee, Bongmook (Autor)
Suri, Rahul (Autor)
Yang, Xiangyu (Autor)
Misra, Veena (Autor)
Klassifikation
DDC Sachgruppe:
Medizin
