Actinic extreme ultraviolet lithography mask blank defect inspection by photoemission electron microscopy
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. Bd. 24. H. 6. MELVILLE: A V S AMER INST PHYSICS 2006 S. 2631 - 2635
Erscheinungsjahr: 2006
Publikationstyp: Zeitschriftenaufsatz
Doi/URN: 10.1116/1.2366607
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Autoren
Lin, JQ (Autor)
Neuhaeusler, U (Autor)
Slieh, J (Autor)
Brechling, A (Autor)
Kleineberg, U (Autor)
Heinzmann, U (Autor)
Oelsner, A (Autor)
Valdaitsev, D (Autor)
Weber, N (Autor)
Escher, M (Autor)
Merkel, M (Autor)
